Компания Cymer, поставщик источников излучения ультрафиолетовой части спектра (deep-ultraviolet, DUV, длина волны - 193 нм), объявила о готовности аргон-фторового (ArF) лазера нового поколения, который предназначен для иммерсионной литографии с применением 45-нм технологического процесса.

Производитель заявляет, что его разработка обладает на 50% улучшенной энергетической стабильностью и имеет на 20% меньшую стоимость владения в сравнении с существующими аналогами.

Такие лазеры позволят излучать импульсы продолжительностью от 5 до 20 нс и частотой до 2000 Гц.

В разработке, получившей название XLR 500i, традиционный каскад усиления мощности заменен рециркуляционным кольцевым, что позволило повысить стабильность энергии импульса. Увеличенная производительность позволит уменьшить количество лазерных импульсов во время обработки кремниевой подложки, что должно снизить себестоимость производства.

Напомним, что иммерсионная литография, использующая лазер с длиной волны 193 нм - это предшественница еще более тонкого техпроцесса - EUV-литографии, использующей источники "жесткого" ультрафиолета. До внедрения последней еще, по меньшей мере, 3-4 года, так, что разработка Cymer в ближайшее время будет весьма востребована.